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产品先容
产品特点

产品先容

PF-300T Plus PESAF 是一款次常压化学气相沉积（SACVD）装备，兼容 SACVD SiO?与 PETEOS 两种薄膜沉积工艺，聚焦先进制程中高深宽比沟槽的介质填充。产品搭载 HF/LF 双频射频系统，具备优异的工艺适配性和缺陷抑制能力；配备特殊加热卡盘，可稳固处置惩罚翘曲度达500μm的晶圆。该产品是天下首款实现 PESAF 工艺量产应用的装备。

产品特点
      - 高深宽比沟槽填充能力精彩
      - 兼容 SACVD SiO? 与 PETEOS 两种薄膜沉积工艺
      - 可稳固处置惩罚翘曲度达500μm的晶圆
      - 可搭载双频射频系统