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NF-300H Astra 是一款高产能多站式 ALD 装备，将 ALD 工艺搭载在高产能 PECVD 平台，可搭载3个6站式反应腔，兼具高产能和坪效优势。产品可沉积高质量 SiO?（氧化硅）、SiN（氮化硅）等多种介质薄膜，通过准确的气体控制实现优异的薄膜匀称性、厚度及应力控制，充分验展 ALD 工艺的精度与保形性优势。该装备具备先进薄膜工艺迭代能力，普遍应用于逻辑、存储及先进封装等芯片制造领域。

产品特点
      - 优异的薄膜匀称性和保形性
      - 可搭载3个6站式反应腔
      - 优异的生产本钱（CoO）及性能指标
      - 具备先进薄膜工艺迭代能力

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