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产品先容

PF-300T Astra 系列是我公司自主研发的原子层沉积(Atomic Layer Deposition)装备,可设置3个2站的反应腔,现已应用于先进的芯片制造及先进封装(TSV)领域,同时针对先进制程前道工艺(FEOL)举行研制开发。现可提供具有高质量的PEALD SiO2、SiN薄膜等。


产品特点
- ALD薄膜在高宽比情形下台阶笼罩率可抵达95%
- 优异的生产本钱(CoO)及性能指标
- 具有优异的匀称性和优异的保型性
- 可搭载1-3个PM,每个PM可设置2个stations
- 通过S2清静认证和F47标准磨练


 
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